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FH OOW

Photonik
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Labore und Ausstattung
Mikrotechnik- / Ultrakurzzeitphysiklabor (T225)

Lasermikrobearbeitungsanlage mit Excimerlaser
(ATL, Optec):
  • 248 nm Wellenlänge
  • 18 mJ Pulsenergie
  • 5-6 ns Pulslänge
  • 300 Hz Repetitionsrate
  • 10 Mikrometer optische und mechanische Auflösung und Reproduzierbarkeit


Hochleistungsfemtosekundenlaser (EGIL)
Clark CPA-2110
  • Strahlqualität M2 = 1,2
  • 775 nm Wellenlänge
  • 1 mJ Pulsenergie
  • 150 fs Pulslänge (TBP 1,4)
  • 7 GW Pulsspitzenleistung
  • 1 kHz Repetitionsrate

Emdener Gigawattlaser


Targetkammer (Vakuumkammer)
für Experimente mit hohen Lichtintensitäten


verschiedene Laserdiagnostiken, Messtechnik zur Analyse von Mikrostrukturen, etc.
  • Beamprofiler
  • Energie- und Leistungsmeßgeräte etc.
  • Spektrometer
  • Autokorrelator
  • Standardmessgeräte wie
    • Oszillographen
    • elektronische Messwerterfassungssysteme etc.
  • Tiefenprofilanalysemeßgerät
  • verschiedene Mikroskope etc.)

Röntgenoptiklabor (T226)

verschiedene hocheffiziente Spektrometer vom nahen Infrarot bis in den Röntgenbereich
verschiedene EUV-/XUV- und Röntgenoptiken
verschiedene hoch auflösende CCD-Kameras
großaperturige torische und sphärische Spiegel, Multilayerspiegel, großaperturige freistehende Transmissionsgitter
(1000 lp/mm, 5000 lp/mm, u.a.m.)

Mikrotechniklabor (T1034) und NanoLab (T1032)
Text folgt.

Darüber hinaus stehen der Arbeitsgruppe weitere Laseranlagen und Messtechnik in Zusammenarbeit mit den anderen Arbeitsgruppen zur Verfügung, u.a.

CW - Faserlaser

Messtechnik zur Analyse von Mikrostrukturen
(REM, Nahfeldarbeitsplatz zur Charakterisierung von Lichtwellenleitern etc.: AG Brückner)

Informationen, Hinweise etc. (intern)

siehe Y-Laufwerk (Y:\fbt\Arbeitsgruppen\Mikrotechnik)


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